Redispersible EMULSIO pulverismaxime adhibetur in: murus internus et externus putty pulveris, lateris ligator, lateris iuncturae agens, pulvis siccus interfaciei agens, murus externus velit mortarium, mortarium auto-adaequationis, mortarium adaequatio, mortarium decorativum, IMPERVIUS mortarium externum velit arida temperamentum misce.Propositum pilae est emendare inbecillitates vetustatis caemento caemento, ut fragilitas et modulus alte elasticus, et caementum caementum meliori flexibilitate et distrahendo vinculo vires ad resistendum et morandum formationem rimas in caemento caemento praebet.Ob structuram retis interpenetrantis inter polymerum et mortarium, polymerus continuus cinematographicus formatur in poris ad confirmandum vinculum inter aggregata.Pororum in mortario quaedam interclusa sunt, ut post duritiam caementi modificati perficiendum multo melius quam caementum caementum est.
Munusredispersible EMULSIO pulverisin caemento;
1. Improve compressive vires et robur luti.
2. Praeterea of * Aliquam pulverismelioris dilationem mortarii, ita ictum duritiem in mortario corrigens, et etiam in mortario bonam vim dat dispersionis effectum.
3. Improve princcps mortarii.Vinculum mechanismum pendet ab adsorptione et diffusione macromoleculorum in superficie visco;rubber pulverisquamdam permeabilitatem habet, et cellulosum aether simul materiam basii superficiem plene infigit, ita ut superficies basis et novum emplastrum obsit, ita adsorptionem augendo et perficiendo valde augendo.
4. Modulum elasticum mortarii reducere, capacitatem deformationis emendare, phaenomenon crepuit minuere.
5. Meliorem gerunt resistentiam mortario.Melioratio resistentiae defatigatio est maxime propter praesentiam cuiusdam globulae in superficie pilae inclinataetenaces pulveriscompages ludit, et structura retinae quae ex stipite formata per foramina et rimas in mortario caemento transire potest.Adhaesio inter materiam turpem et onem hydropicorum productum augetur, et indumentum resistentiae augetur.
6. Da mortarium optimum alcalini resistendi.
Post tempus: Feb-29-2024